A Marked Point Process Model for the Source Proximity Effect in the Indoor Environment
室内环境源邻近效应的带标记点过程模型AI 解读 ↓
← 返回论文列表与筛选
阅读说明
本页整理公开书目信息，不生成学术质量评分。AI 解读根据题名及所注明的摘要或原文片段生成，未完成全文核验，可能有误；具体假设、证明与结论请核对原文。摘要保留来源文本，未经模型改写。
DOI 首次登记不等于接收或发表日期。部分更正、评论等条目没有独立摘要；缺少可靠材料时保留待补状态。
引用量采用 OpenAlex 单条关联记录，不合计多个记录；关联记录可能包含正式发表版本，不等于此版本单独引用。缺失不视为零，引用指标不代表论文质量。
关注作者按书目中的完整姓名匹配，同名和姓名变体需人工辨别。相关论文先按共享细分方向和具体方法排列，再参考通用方法与发表日期。
分类依据与纠错
AI 根据所提供的论文材料归类：摘要明确对多处监测得到的浓度时间序列进行基线与瞬态成分建模，直接对应时间序列方法。
反馈分类问题
正在核对关联版本…
代码、数据与补充材料
正在核对对应版本的资源…
关注这篇论文的作者
室内环境源邻近效应的带标记点过程模型
- 研究问题
- 室内污染源附近的个人暴露为何比固定监测值更高且更易波动，如何利用不同距离的浓度序列刻画这一源邻近效应？
- 方法与思路
- 作者将浓度序列分解为缓慢变化的基线与短暂微羽流叠加，非参数估计基线时变参数，并用矩估计拟合微羽流参数。
- 材料陈述的贡献
- 摘要称模型参数可描述不同距离的暴露组成并帮助理解源邻近效应的物理原因，模拟用于考察估计偏差与抽样误差。
- 阅读关注点
- 应核对微羽流到达及标记分布的设定、基线与脉冲的区分、矩估计条件，以及家庭实验和模拟对解释的支持程度。
- 阅读边界
- 依据 OpenAlex 索引摘要，稿件版本未注明。摘要未给出点过程假设、估计数值或实验规模，不能推断因果效应及跨环境普适性。
原文摘要
In indoor air quality studies, discrepancies between personal and stationary indoor air quality monitors arise because of the source proximity effect, in which pollutant sources near the respondent cause elevated and highly variable exposures. In a set of experiments in a home, concentrations of a continuously emitting tracer gas were simultaneously monitored at different distances from the tracer gas source. Concentration time series are modeled at collinear monitoring sites as the sum of a slowly varying baseline time series and the superposition of transient elevated concentrations, or “microplumes.” Microplume arrivals appear as pulses in the time series, with pulse magnitudes and duration varying by location relative to the source. A nonparametric method is developed to estimate the time-varying parameters of the baseline time series. Parameters of superposed microplumes are estimated using the method of moments. Bias and sampling error of estimates are investigated using a simulation study. Estimates of superposition model parameters provide insight into the physical reasons behind the source proximity effect as well as a description of components of exposure at different distances from an emitting source.